类型：现象phenomenon
状态：已解明
▶描述：
*过曝*是一种出现于光学成像系统——包括生物体及电子元件——中的现象。
产生条件：镜头或眼睛对准场景中存在亮度低于10lux的区域。
表现：画面整体曝光增高，直至画面最低亮度不低于500lux。画面清晰度、饱和度、对比度等值降低，信息丢失严重。
▶时间线：
6688年5月开始，观测站光学成像设备所拍影像曝光量远高于默认值。人工调节后可恢复正常，但下次使用时仍曝光量异常增高。
经调查，受影响设备均被人为调节参数。
我们重点调查几位可疑人员，其中13号驻站人员嫌疑最大。13号为设备维护员，该人员在*IF007-恐黑症事件*后情况恶化，为此曾打开全观测站的灯光，并将宿舍内深色物品丢掉，阴影位置涂白。
8月，我们对13号进行调查及采访。在心理攻势下，他最终承认设备异常均由其所为，如实交代何时何地对设备进行何手段处理，但始终拒绝透露动机。
9月，我们交给13号一个专属相机，让他自由拍摄，从此其它设备再无异常。
6689年初，13号将相机交还于U，随后坠楼而亡。
在相机中发现一系列观测站内部照片以及一张遗书照片。
▶遗书内容
[*无查看权限*]
▶影像记录
[*无查看权限*]
▶建议：
13号并非畏惧黑暗而损毁图像，而是为了从黑暗中寻找某物而进行图像处理。因不可抗力，我们不能对他进行形式上的追悼，也不能对他的事迹‘过度曝光’，但我们会记住他的无声奉献。
13号死后，该现象出现概念扩大化的倾向，导致*过曝*传染至其它系统中。如发现异常，请通过信箱联系我。——U
